ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款獨立可控制的薄膜生長設(shè)備，能夠?qū)崿F(xiàn)全自動工藝控制并包含完整的安全聯(lián)鎖功能。ALD應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，如高K柵氧化層、存儲容性電介質(zhì)、銅互連中高深寬比擴散阻擋層、OLED無針孔鈍化層、MEMS高均勻鍍膜、納米多孔結(jié)構(gòu)鍍膜、特種光纖摻雜、太陽能電池、平板顯示器、光學(xué)薄膜以及其他各類特殊結(jié)構(gòu)納米薄膜等。